您現(xiàn)在的位置是:首頁 >要聞 > 2020-11-20 08:34:13 來源:
通過粘合光刻技術(shù)制備的納米級肖特基二極管
為了制造納米級光子和電子設備,工程師需要由不對稱金屬制成的電極,這些電極由納米(nm)長度尺度的間隙隔開。到目前為止,這些電極中的大多數(shù)都是使用高端構(gòu)圖技術(shù)制造的,例如電子束光刻。
雖然已經(jīng)發(fā)現(xiàn)電子束光刻技術(shù)可以在不對稱金屬電極中進行高保真圖案化,但它也存在許多局限性。例如,通常很難大規(guī)模應用,因為它只能同時處理有限數(shù)量的項目,并且僅對某些材料有效。
阿卜杜拉國王科技大學(KAUST)和倫敦帝國理工學院的研究人員介紹了一種替代方法,該方法可潛在地用于大規(guī)模制備不對稱納米間隙電極。最近,他們使用了這種技術(shù)(幾年前在《自然通訊》上發(fā)表的一篇論文中首次提出)來制造納米間隙電極設備。
“我們最近的研究是基于我的小組在2014年偶然發(fā)現(xiàn)的;該方法(即粘附平版印刷術(shù)或'a-Lith')可用于對由相同或不同金屬制成的兩個電極進行構(gòu)圖的方法彼此之間的距離小于15海里。”進行這項研究的首席研究員Thomas D. Anthopoulos對TechXplore說。“盡管我們最初的興趣是制造自對準柵晶體管,但我們很快意識到,自對準電極之間的距離很小(即,長度小于15 nm的納米間隙)。”
Anthopoulos和他的同事設計的制造方法不需要特別復雜的工具,也可以使用傳統(tǒng)的光刻設備將其應用于大部分材料上。此外,它可以實現(xiàn)良好的結(jié)果,而不必采用其他且通常昂貴的構(gòu)圖技術(shù),例如電子束光刻。
當他們大約在五年前開始測試其方法時,研究人員主要將其用于制造有機光電納米間隙器件。但是,他們很快意識到,它還允許使用前體溶液將無機材料(如ZnO)沉積在納米間隙內(nèi)。
在最近的研究中,Anthopoulos和他的同事使用他們的a-Lith技術(shù)創(chuàng)建了可以在微波和毫米波頻段工作的溶液處理的ZnO肖特基二極管。為了制造這些二極管,他們使用晶圓級的a-Lith圖案化了兩個不對稱的金屬電極,將它們隔開約15 nm的間隙。最后,他們通過在器件襯底上沉積ZnO層來完成它們。
“ a-Lith可以使兩種不同的金屬彼此非常接近地排列,這一事實使我們能夠分別調(diào)節(jié)兩個金屬-ZnO觸點的特性,從而使一個歐姆變成另一個,而-15 nm消失,從而使整個平面該設備的行為就像二極管(即,僅允許電流在一個方向上流動的設備),” Anthopoulos說。“這個關(guān)鍵器件參數(shù)的納米級尺寸是我們的平面ZnO肖特基二極管具有出色工作特性的原因。”
a-Lith的制造過程相當簡單,因此可能更易于大規(guī)模實施。它還不需要對沉積參數(shù)的精確控制,這在創(chuàng)建傳統(tǒng)的垂直型二極管時通常是必需的。
Anthopoulos說:“使用傳統(tǒng)的光刻技術(shù)并結(jié)合一些關(guān)鍵的處理步驟,可以很容易地在大面積基板(玻璃,硅甚至聚合物)上制造我們的二極管。” “這些步驟使我們能夠在兩個重疊的金屬電極之間進行機械剝離,從而在兩個重疊的金屬電極之間形成納米間隙。一旦形成了不對稱的納米間隙電極,就會形成ZnO或摻雜鋁的前體溶液通過旋涂將ZnO沉積在頂部,然后在空氣中進行最后的熱退火步驟。”
由Anthopoulos制造的二極管具有100 GHz的最大固有截止頻率。此外,研究人員將它們與其他無源電子元件集成在一起以創(chuàng)建射頻能量收集電路,并發(fā)現(xiàn)這些電路在2.45 GHz和10 GHz時分別達到600 mV和260 mV的輸出電壓。
Anthopoulos說:“ a-Lith方法是可擴展的自下而上技術(shù)如何與既定的自上而下方法巧妙結(jié)合以產(chǎn)生創(chuàng)新的加工范式的有力實例,該范式提供了優(yōu)于傳統(tǒng)制造技術(shù)的獨特優(yōu)勢,” Anthopoulos說。“我們的ZnO二極管首次展示了我們的處理范例如何產(chǎn)生能夠以解決方案處理的大面積電子設備(尤其是物聯(lián)網(wǎng)(IoT)設備生態(tài)系統(tǒng))無法想象的頻率工作的設備。”
理論上,用于創(chuàng)建這些肖特基二極管的設計和制造過程也可以用于開發(fā)其他電路組件,包括電阻器和電容器。將來,這項研究可以為眾多設備以及單片射頻(RF)電路的開發(fā)和大規(guī)模生產(chǎn)鋪平道路,而無需昂貴且通常不可靠的異構(gòu)組件集成過程。
Anthopoulos說:“我認為我們的工作將傳統(tǒng)的射頻電子設備與印刷的大面積電子設備的新興領(lǐng)域聯(lián)系起來,并具有實現(xiàn)許多新應用的潛力。” “我們現(xiàn)在正在利用納米間隙技術(shù)開展多個項目,包括開發(fā)改進的,高度可擴展的納米光刻技術(shù),這些技術(shù)在提高分辨率的同時又易于實施,同時還開發(fā)了創(chuàng)新的光電,傳感器和能量收集/發(fā)電設備。未來對于我們的大而微小的納米間隙絕對是明亮的。”