熔融石英中的激光損傷，特別是紫外線激光損傷，仍然是限制高功率激光系統(tǒng)發(fā)展的關(guān)鍵問題。熔融石英的傳統(tǒng)加工方法經(jīng)歷研磨和化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)的過程。該方法耗時(shí)費(fèi)力以獲得超光滑的表面，并且容易引起表面和亞表面缺陷，從而大大降低了熔融二氧化硅的表面損傷閾值。

最近，來自中國(guó)科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所的研究小組將化學(xué)蝕刻和CO 2激光拋光相結(jié)合，用于處理熔融石英。化學(xué)蝕刻被用于打開研磨的熔融二氧化硅的表面下缺陷。隨后，施加CO 2激光拋光以減小表面粗糙度。

這種組合工藝不僅可以有效地獲得具有低表面粗糙度的超光滑表面，而且可以提高熔融石英的抗損傷性。這項(xiàng)工作發(fā)表在《光學(xué)快報(bào)》上。

通過損傷形態(tài)和缺陷分析，表明該組合過程避免了引入表面和亞表面缺陷，包括破壞性缺陷，化學(xué)結(jié)構(gòu)缺陷和光敏性精神雜質(zhì)元素，并獲得了具有較低表面缺陷密度的熔融二氧化硅，從而獲得了更好的抗破壞性。